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UVオゾン洗浄装置 Model 144AX


紫外線とオゾンによる洗浄は、ワークにダメージを与えず、
汚れを根こそぎ除去。


本装置は、主に油性の汚濁物質など、有機化合物の汚れを徹底的に除去します。
湿式洗浄で埃やカスを除去した後、仕上げとして本装置をご使用いただきますと、
より効果的な洗浄効果が得られます。


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UVオゾン洗浄装置 Model 144AX画像

UVオゾン洗浄装置 Model 144AXの概要

環境にやさしい、エコなクリーナー


Model 144AX は、平面水銀ランプから紫外線を照射。
この照射エネルギーと生成されるオゾンを利用し、有機化合物を分解・酸化させて汚れを除去します。
ワーク表面に熱や摩擦によるダメージを与えず、洗浄も効率的。ゴミ・ちりの再付着や、有機化合物による汚染の心配もありません。


湿式洗浄よりも高い洗浄力


本装置は、湿式洗浄よりも効果的な洗浄力が自慢のひとつ。( *下部処理条件の表を参照下さい。)
超純水のリンス前に光洗浄を加えると、油性の汚濁膜が取れ、粘着した微細なホコリも、すすぎ洗いで除去出来ます。

【 接触角とは? 】

洗浄表面に試薬水をたらし、その湿り具合で評価。 およそ30〜60秒ほどの紫外線の照射で、接触角は各段に低下。
接触角「4度」とは、有機化合物の膜が単分子以下になった状態を意味します。


UVオゾン洗浄装置 Model 144AXの機能

半導体分野以外にも、様々な洗浄用途に応用いただけます。

■ 電子材料、液晶、自動車、家電、ETC等でも使用可能

■ セラミック基盤、液晶ガラス、ブラウン管、磁気ヘッド、クロム膜等の密着性向上や表面改質

■ Si ウェハ、GaSa ウェハ、レンズ、ミラー、太陽電池パネル等のクリーニング、密着性の向上

■ ダイシングテープの粘着性の低減 (※種類によって、粘着性が向上するものもあります。)

■ レジストのハードニング促進、アイシング、残カス除去

■ FPD/PDPのクリーニング

■ ウェハの酸化層の増大

■ EPROM、メモリの中性化

■ 各種材質のクリーニング、密着度向上、酸化増強、硬化など

■ バイオケミカルの殺菌等

オプション機能

■ Suprasil UV Lamp( 合成石英ガラス紫外線ランプ )
   紫外線短波長184.9nmの透過率は、標準ランプが65%のところ、本ランプは90%
   オゾンの生成率が2倍にアップされており、クリーニング時間も短縮。

■ オゾン キラーユニットは、排気ダクトからのオゾン排出を避けたい方に( 排気ユニットと併用 )

■ 排気ユニットを装備すれば、排気設備のない場所でもご使用可能に。
   オゾンキラーユニットとの併用で、オゾン臭も気になりません。

■ トレイのサイズも各種取り揃えております。( 単位:mm )( 下部トレイサイズ表をご参照下さい。)

■ 紫外線照度計入力: AC100V 12A

処理条件 接触角
無処理のガラス板 26
洗剤→水道水→炭化水素系溶剤 39
洗剤→水道水→純水 17
洗剤→水道水→IPA ※ 14
オゾン水 10度以下
洗剤→水道水→プラズマ 5
洗剤→水道水→UVOクリーナー 4
※ IPA:イソプロピルアルコール

トレイサイズ(mm)
576 D609.6mm x W609.6mm x H76.2mm
7576 D609.6mm x W609.6mm x H177.8mm
384 D406.4mm x W609.6mm x H76.2mm
288A D304.8mm x W609.6mm x H76.2mm
256 D406.4mm x W406.4mm x H76.2mm
144AX D304.8mm x W304.8mm x H76.2mm
42 D165.1mm x W171.4mm x H38.1mm
342 D165.1mm x W171.4m x H101.6mm


UVオゾン洗浄装置 Model 144AXの仕様

■ ランプの耐久時間(1,500〜1,700時間)

■ 紫外線ランプは、254nm 以下の波長では熱領域を出さないため、熱に敏感なワークでも安心してご使用いただけます

■ 処理された有機物は、ガス化され、オゾンと共に排出される為、再付着の心配はありません。



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